小编 7 月 20 日消息,光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据。

ASML 公告称,截至 6 月 30 日的三个月,公司收入为 54.3 亿欧元(约 374.67 亿元人民币),高于 2021 年同期的 40 亿欧元;净利润为 14.1 亿欧元(约 97.29 亿元人民币),高于去年同期的 10.4 亿欧元。

ASML 表示,净利润较高的原因是新订单量创历史新高,因为尽管有迹象表明销售放缓,但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备。

根据路孚特数据,ASML 第二季度收入超过分析师预期的 52.8 亿欧元,而利润低于预期的 14.4 亿欧元。

ASML 表示,利润率受到了通胀成本上升的影响,此外,一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货,导致了延迟确认收入,从而影响了收益。

小编了解到,ASML 主导着光刻系统市场,客户包括所有主要芯片制造商,其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户。

ASML 公告还透露,公司的 EUV 高 NA 业务中,已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台。这些模块将用于初始测试和集成,这是 EXE:5000 程序的重要一步。

此前据 BusinessKorea 报道,三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV 光刻设备达成了协议。High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。

High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍。

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象,但我们仍然看到对我们系统的强劲需求。虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统,但供应链限制的增加导致出现了延迟。”

此外,ASML 本季度的净预订额为 84.6 亿欧元(约 583.74 亿元人民币),创历史新高。ASML 表示,预计将在今年晚些时候向市场通报到 2025 年大幅扩大生产的可行性。该公司表示,由于快速发货计划,预计 2022 年价值约 18 亿欧元的销售额将推迟到 2023 年,这意味着 2022 年的销售额增长将比先前估计的 20% 下降约 10%。

央视正式宣布,国产EUV技术大获突破,ASML总裁预言成真

任正非曾表示,我国拥有世界顶级的芯片设计能力,掌握着世界上最先进、成熟的芯片制程工艺,由于光刻机和化学材料被卡了脖子,国内企业无法独自制造出高端芯片。

然而,让所有人没想到的是,不久前,央视正式宣布,国产EUV光刻机取得重大技术突破,且0.1nm的光源设备已投入使用!

随着 科技 的发展,智能电子产品的普及,很多领域的发展都已离不开芯片的支撑,掌握芯片已上升为世界各国的战略层次。

众所周知,我国进入半导体领域较晚,西方国家为了防止我国 科技 的崛起,早在几十年前签订了《瓦森堡协定》,禁止向我国出口高尖端技术,且国内企业过于追求轻资产的发展,而忽视了对重资产投资的重要性,以至于国内所消耗的芯片,70%以上都要依赖进口。

上文也提到了我国为何无法独自制造出高端芯片的原因,光刻机被卡了脖子!或许有的人会问,我们原子弹都能造出来,为何造不出EUV光刻机?

EUV光刻机的制造是一个项目工程,不仅需要大量的高尖端技术,还需要海量的高精密元器件。如ASML公司制造的EUV光刻机, 所需的元器件高达10万件,来自世界上35个国家的1500多个企业,且每一件都代表着业内的最高水准。 值得一提的是, ASML公司制造EUV光刻机所需的核心元器件,没有一件是来自我国企业,可以预见,我国要制造EUV光刻机的难度有多大。

随着美国不断对我国企业进行芯片制裁,让我们意识到: 在当今这个时代,要想摆脱被人鱼肉的命运,就必须实现技术独立,制造出EUV光刻机,实现高端芯片的国产化。

2020年9月16日,中科院正式宣布,已根据“卡脖子清单”成立了对应的科研攻关小组,且光刻机技术攻关团队的每一位科研人员立下了军令状,争取在短时间内攻克技术难关,制造出国产EUV光刻机。

随着国内“造芯”浪潮的掀起,ASML公司总裁在不久前发出警告: 如果不将光刻机卖给中国,三五年之后,中国就会拥有自己的光刻机,凭借着强大的成本优势,很可能在15年之内将ASML公司逼出光刻机市场。

如今,随着央视一则关于国产EUV光刻机的发布,终于进一步验证了ASML总裁的预言。

近日,央视正式宣布: 我国已经在EUV光源和双工件台技术上取得重大突破!

据央视公开的消息来看,中科院自研的国内首台高能光源设备已经开始使用,且安装完成度已超过70%。中科科美也掌握了透镜镀膜技术,制造出了光学零件0.1nm的镀膜设备。

了解EUV光刻机的朋友都知道,EUV光刻机是由3个核心部分构成的: EUV光源、双工件台和EUV光学镜头。如今,我们已经突破了EUV光源和双工件台技术,这也就意味着,我们只要实现了EUV光学镜头的制造,即可制造出国产EUV光刻机。

在这个经济全球化的时代,各国企业之间的联系越来越紧密,分工越来越清晰,已经形成了“你中有我,我中有你”的现象,如果一家企业受到非正常的“攻击”,整个产业链都会受到严重的影响, 美国制裁华为,加剧世界“芯荒”就是一个很好的证明。

国内半导体行业不断传出的好消息,向世界传递了一个重要信息: 任何要想奴役我们 科技 的国家,必将会在我国企业、科研人员和14亿国人用血肉筑成的铜墙铁壁面前,碰得头破血流!

新计划确定,EUV光刻机的情况令人“意外”

芯片的发展一直遵循摩尔定律,不断向微缩方向前进 ,如今进入到10nm制程以下,7nm、5nm已经实现量产,马上就要进行3nm的量产,2nm研发也提上日程。

但随着芯片制程的越来越小,技术难度也越来越大,因为不仅材料即将达到物理极限,就连所依赖的光刻机也需要更新迭代。于是,ASML有了新计划,开始着眼长远。

对于芯片制造来说,不可或缺的最关键设备就是光刻机。因为光刻机的先进性决定了芯片厂商能做的制程工艺,就比如7nm以下制程的芯片,就必须用EUV光刻机。

但目前EUV只有ASML一家能够生产,且从2012年出货开始,到去年为止总共才出货了140台,加上今年第一季度3台共146台,正式批量出货才从2017年开始。

这其中有一半多被台积电一家买走,据说占比为55%,也就是买走了79台EUV。

剩下的45%,约64台EUV,为三星、英特尔、SK海力士等共同分得。可见,其他厂商想多获得也不容易。为争取更多EUV,三星负责人两次前往ASML总部去争取。

值得一提的是,EUV还限制出货给中企。中芯国际2018年订购了一台EUV, 由于美方阻挠,至今未到货。不仅如此,美又修改规则,国外厂商的大陆厂也不能获得。

之前,韩企SK海力士的无锡厂就中招了。不过,这种情况可能将要发生改变了。

ASML早就对EUV出货限制表示出不满,曾表示主要是《瓦森纳协议》相关国家的限制,还直接警告限制只会加速大陆技术突破,到时他们只能面临失去市场的后果。

发怨言、警告都没什么用,于是ASML只能自己行动,争取自由出货。一方面,加快EUV更新迭代,研发新一代EUV。另一方面,继续扩大产能,提高EUV市占率。

其实,ASML自己很明白,只有EUV自由出货,抓住大陆市场才能实现更好发展。

在今年一季度财报会上,ASML披露了EUV出货计划,为了满足不断扩大的需求,今年计划出货55台EUV,并且产能还会逐步提升,到 2025年时争取出货达90台。

90台EUV什么概念,台积电6年间获得才79台,年产90台将超过实际的需求。

按计划,2025年时新一代High-NA EUV也开始量产出货。这样,原来的EUV就成了迭代产品,加上产能已超过需求,再不让出货就说不过去了,ASML就有机会了。

有人可能会说,ASML为什么要生产那么多,让EUV供过于求,这不是给自己找麻烦吗?要知道,ASML研发EUV技术超过十年,先后投入400多亿,为的是什么?

作为企业,自然要实现利润最大化,首先自然是收回成本,再者就是要用它来获得更多的收益。让EUV供过于求,正是为争取大陆这个最大的市场,为了更多利润。

因为EUV限制,我们早就开始布局研发国产EUV,所以ASML是在为自己抢时间。

一旦我们突破了EUV,能够做出国产EUV,还会有ASML的事吗?所以ASML才会积极推进EUV自由出货,争取在我们突破前占领市场,就像现在DUV光刻机一样。

再说,还有替代EUV的技术在研发,比如NIL技术,因此留给ASML的时间不多了。

对于ASML90台计划,外媒评价道,这相当于承认了,确实在争取EUV自由出货。

即使如此,EUV自由出货也是3年以后的事了,到时什么情况谁也说不准。因此,我们不必对此寄予希望,还是踏实进行EUV相关技术研发,争取早日实现国产EUV!